HISEMI TÆKNI
Nýlega gaf HISEMI TECHNOLOGY opinberlega út nýja kynslóð af nákvæmnisslípu- og fægibúnaði fyrir tvöfalda stöð á rannsóknarstofu. Nýja varan einbeitir sér að því að mala og fægja sýnishorn af litlum lotum fyrir hörð og brothætt efni eins og þriðju-kynslóð hálfleiðara, sjónkristalla og sérstakt keramik, sem fyllir skarð í staðsetningar búnaðar til undirbúnings sýna með mikilli-nákvæmni í innlendum vísindarannsóknum.
Þróun nýrra hálfleiðaraefna hefur ýtt undir eftirspurn eftir nákvæmni mala og fægja
Með hraðri stækkun þriðju-kynslóðar hálfleiðaraiðnaðar eins og kísilkarbíð (SiC) og gallíumnítríð (GaN), eru helstu háskólar, rannsóknarstofnanir og rannsóknarstofur hálfleiðarafyrirtækja stöðugt að uppfæra kröfur sínar um flatt undirlag, þykktarnákvæmni og yfirborðsgrófleikavísa. Hefðbundinn malabúnaður á einni stöð hefur sársauka eins og lítil vinnsluskilvirkni, ójafn þrýstingsstýring og léleg endurtekningarhæfni ferlisins. Innfluttur nákvæmnisslípubúnaður hefur einnig vandamál eins og háan innkaupakostnað, langa viðhaldslotu og erfiðleika við aðlögun og umbreytingu. Byggt á raunverulegum þörfum innlendra nýrra efnisrannsókna og þróunar, treystir Hemei hálfleiðari á margra ára reynslu í rannsóknum og þróun nákvæmnisslípubúnaðar, hagræðir endurtekið burðarvirki og útfærir þessa tvískiptu stöðva greindu nákvæmnisslípu- og fægivél.
Tvöföld stöðvarhönnun nær til betri skilvirkni í ferlinu
1. Óháð tvískiptur stöðvarhönnun: Búnaðurinn er búinn tveimur settum af sjálfstæðum vinnustöðvum og aðlagað innréttingin (Jjg) er búin stafrænni þykktarvöktunareiningu, sem getur fylgst með magni sem er fjarlægt úr sýnismala í rauntíma á netinu, með nákvæmni upp á 1 μ m og stillanlegur festingarþrýstingur. Tvöföld stöðvarhönnunin getur unnið úr og stillt lögun disksins á sama tíma og getur einnig unnið úr stærri fjölda sýnishorna samtímis, sem er næstum tvöfalt skilvirkari en hefðbundin vinnsla á einni vél.
2. Greindur snertiferlisstýringarkerfið samþykkir Huichuan INOVANCE iðnaðar snerti stýrikerfið, sem styður geymslu og endurheimt margra setta af malaferlisformúlum. Það getur nákvæmlega stillt mala diskinn hraða, mala tíma, þrýstingsálag og mala vökva úða færibreytur, og auðveldlega nálgast þroskað ferli með einum smelli, stórlega draga úr mannlegum mistökum og tryggja samkvæmni í sýnavinnslu.
3. Nákvæmni vökvaveitukerfið er staðalbúnaður með 2 sjálfstæðum slípandi vökvadropaleiðslum, sem geta útvegað rekstrarvörur eins og demantsslípandi vökva og súrálfægingarvökva í rauntíma í samræmi við slípunarferlið, fínstillt yfirborðsslípunarumhverfið, minnkað á áhrifaríkan hátt brot og rispur á yfirborðsbrúnum og lagað sig að ýmsum gerðum af hörðum og brothættum undirlagi eins og silicon carbide, silicon apphirde, piezoelectric keramik o.fl.
4. Hönnun öryggisstöðlunar líkama: Búnaðurinn samþykkir samþættan ryðþéttan líkama, búinn neyðarstöðvunaröryggishnappi og aflverndarrofa. Uppbyggingin er fyrirferðarlítil og tekur lítið svæði, aðlagar sig fullkomlega að staðsetningarumhverfi rannsóknarstofuborðsins, jafnvægir stöðugleika búnaðarins og rekstraröryggi.
Gerð rannsóknarsýna sem ná yfir mörg svið
Þetta nýja tæki er aðallega ætlað að þremur helstu notkunarsviðum:
1. Þriðja kynslóð hálfleiðara rannsóknir og þróun: SiC/GaN undirlagsþynning, spegilslípun, notuð til undirbúnings sýnis áður en efnis eðlis- og efnafræðilegir eiginleikar og rafeiginleikaprófanir;
2. Ljósfræði og kristaliðnaður: Nákvæmni fægja sjóngler, safír hvarfefni og kvars kristal enda andlit til að mæta þörfum sjónhúðunar og ljósflutningsprófunarsýna;
3. Rannsóknarsvið nýrra efna: slípun og slípun á sérstökum ólífrænum ó-málmefnum eins og súrálkeramik, litíumníóbati, gallíumarseníði, demantasamsettu efni o.fl.
Flýttu innlendu útskiptaferli nákvæmnisslípubúnaðar
Áður hafði hár-nákvæmnisslípubúnaður á rannsóknarstofu í Kína lengi reitt sig á innfluttar gerðir frá Evrópu, Ameríku og Japan. Innleiðing þessarar tveggja stöðva mala- og fægivél frá Hemei Semiconductor hefur sett svipaðar innfluttar vörur í samanburði hvað varðar vinnslunákvæmni og greindarstjórnun, en dregið verulega úr innkaupum og kostnaði eftir notkun. Búnaðurinn hefur verið tekinn í notkun í nokkrum Double First Class háskólum í Kína, þar á meðal School of Materials Science and Technology, Key Laboratory of Third Generation Semiconductors og R&D Center of Leading Power Semiconductor Enterprises.
Iðnaðargreining sýnir að með hröðun staðsetningarferlis þriðju-kynslóðar hálfleiðara og háþróaðra ljósefna í Kína, heldur eftirspurn eftir staðsetningum á nákvæmni forvinnslubúnaði rannsóknarstofu áfram að aukast. Staðbundnir búnaðarframleiðendur halda áfram að endurtaka tækni sína, sem mun brjóta enn frekar út einokun erlendra vörumerkja og bæta stuðningskeðjuna fyrir innlenda hálfleiðara ný efnisiðnaðar.
