Indíumfosfíð (InP) hálfleiðaravinnslutækni

Oct 21, 2025

Skildu eftir skilaboð

Indíumfosfíð (InP) Hálfleiðaravinnslutækni​

​Efnisyfirlit​

Inngangur

Umsóknarkröfur

Kerfislýsingar

Vinnsluflæði

Viðskiptavinamál

​

​Umsóknarkröfur​
InP oblátavinnsla verður að ná eftirfarandi markmiðum:

Yfirborðsgrófleiki: Eftir-slípun Ra Minna en eða jafnt og 1 nm

Heildarþykktarbreytileiki (TTV): Endanleg obláta TTV Minna en eða jafnt og 2 µm

Þykktarstýring: Markþykkt 150 µm (háð kröfum viðskiptavina)

Sléttleiki brúnar: Bættu upp fyrir brúnbeygju á fægjastiginu með því að nota kúpt slípiplötu.

​Kerfislýsingar​
HSM Precision Grinding and Polishing System veitir heildar-ferlalausn.

​Vinnsluflæði​

​Undirbúningur mala​

Notaðu flatneskjuprófunarmæli til að kvarða kúpt glerslípplötunnar (notað til að jafna upp brúnaráhrifum).

Hladdu InP oblátunni á sérstaka festinguna (ASJ). Framkvæmdu tveggja-mölun með því að nota súrálslausn:

​Stig 1:Fjarlægðu skurðskemmdir, minnkaðu grófleika í 250-350 nm.

​Stig 2:Bættu flatneskju, náðu grófleika upp á 200-350 nm og TTV minna en eða jafnt og 3 µm.

​Undirbúningur við fægingu​

Skiptu um Lapping plötuna fyrir fægipúða og skiptu slípiefninu yfir í HSM sérhæfða fægislípu.

Stjórna lykilbreytum í gegnum grafíska viðmótið:

Hraði pússplötu: Minna en eða jafnt og 100 snúninga á mínútu

Rennslishraði gróðurs: Fylgst með rauntíma-dreypistýringarkerfi (dregur úr sóun)

Þrýstiálag: Virkilega stillt miðað við kröfur um þykkt.

​Markmið:Fjarlægðu skemmdir undir-yfirborði og náðu sléttu yfirborði (Ra minna en eða jafnt og 1 nm).

​Niðurstöður​
2-tommu InP skífurnar sem unnar voru af HSM-LP kerfinu náðu eftirfarandi frammistöðu:

​Viðskiptavinamál​
Viðskiptavinur notaði HSM-LP kerfið til að vinna úr 2 tommu (50 mm) InP diskum. Ferlið og niðurstöður eru sem hér segir:

​Tveggja-slípun:​​

Kúpt plötunnar er stillt á sveigju marksins (til að vinna gegn jaðskekkju).

Efni fjarlægt í skrefum með súrálslausn, TTV stöðugt við 3 µm.

​Fæging:​

Rennslishraði fægingarglöss stilltur á 50 ml/mín., plötuhraði við 80 snúninga á mínútu.

Yfirborðsgrófleiki minnkaður úr 350 nm í 1 nm (staðfest með Dektak prófílmæli).

​Lokatölur:​

Þykkt: 150 ± 0,5 µm

Flatness: TTV Minna en eða jafnt og 1 µm

Edge Heiðarleiki: Engin flís.

​Tæknileg staðfesting​
Skýringarmynd: Yfirborðsformgerð InP skífunnar eftir vinnslu með HSM-LP kerfinu.

1conew1

​Athugasemdir:​

Mælibúnaður: Bruker ContourGT White Light Interferometer

Full-ferlisávöxtun: Stærra en eða jafnt og 98% (lotustærð 80 skífur)

Hringdu í okkur